Thorsten Fischer, Kai Zoschke, Katrin Scherpinski, Klaus Buschick, Oswin Ehrmann, M. Jürgen Wolf, and Herbert Reichl
Abstract:
High density interconnect and wafer level packaging technologies are exceedingly challenged by the compactness
of autarkic distributed microsystems. The realization of extremely space saving system-level integration requires
technologies allowing 3D packaging while taking into account the required space of passive components
which are important parts of such systems. The minimization of the area needed for passive components such
as coils, resistors, capacitors and filters is an important factor for volume reduction of such systems.
The application of thin flexible circuit carriers stacked by bump pad connections is a possibility to realize the 3D
integration. Flexible circuit carriers based on polyimide dielectrics with high density copper wiring systems and
passive components are produced at wafer level using thin film processes. The units are diced by sawing and
released from the carrier wafer by dissolving a release layer which was chosen as first layer of the thin film build
up.
Layout and design of the technology demonstrator with passive components as well as the technological process
flow are described in detail and first results of the integration of resistors, coils, capacitors and filters in
flexible circuit carriers are discussed.
Übersicht:
Autarke verteilte Mikrosysteme stellen durch ihre Kompaktheit eine besondere Herausforderung an die Aufbau-
und Verbindungstechnik. Durch die Anforderung, eine Systemintegration in einem definierten Volumen
vorzunehmen, sind Technologien, die einen 3 dimensionalen Aufbau ermöglichen, nötig. Die Minimierung des
Platzbedarfes der passiven Komponenten wie Spulen, Widerstände, Kondensatoren und Filter in solchen Systemen
ist ein wesentlicher technologischer Ansatzpunkt zur Volumenreduktion.
Eine Möglichkeit, die 3D Integration durchzuführen, ist die Verwendung von dünnen flexiblen Verdrahtungsträgern,
die über Bump-Padverbindungen zu einem dreidimensionalen Gesamtsystem gestapelt werden können.
Diese Verdrahtungsträger werden in einem Dünnfilmprozeß auf Trägerwafern als Kupfer / Polyimid-Mehrlagenverdrahtungsystem
hergestellt. Die passiven Komponenten werden dabei integriert. Die Einheiten werden durch
Sägen getrennt und durch Ablösen einer Opferschicht, die als erste Lage des Dünnfilmaufbaus gewählt wurde,
vom Trägermaterial vereinzelt.
Der Entwurf des Technologie-Demonstrators mit den passiven Komponenten sowie dessen technologische
Realisierung werden ausführlich beschrieben. Abschließend werden erste Ergebnisse der Integration der passiven
Komponenten in den flexiblen Schaltungsträger präsentiert.
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